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성막재료

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성막재료

고품질의 성막재료를 엄선한 폭넓은 상품구성

ULVAC은 신뢰성 높은 프로세스를 지향하는 고성능의 성막재료를 엄선하여 신속·정확한 공급체제를 확립하고 있습니다. 또한 성막장치의 기술개발 노하우를 활용하여, 차세대 성막재 개발에도 적극적으로 힘쓰고 있습니다.

Sputtering Target

대규모 생산용부터 연구용까지 다양한 요구에 대응하고 있습니다.
대형액정용 Sputtering Target
대형 액정용 스퍼터링 타켓
FPD용 Glass의 대형화에 대응한 고성능의 Sputtering Target을 공급하고 있습니다.
특히, 투명전도막 재료인 ITO Target은 Low Particle, 초 고밀도 Target의 개발로 높은 생산성을 제공하고 있습니다.
특징
투명전도막용 초 고밀도 ITO Target
미세결정립 Splash-free 대형 알루미늄Target
고순도(순도 4N이상)대형 일체 성형 Cr Target
동배선용 Sputtering Target
동(銅)배선용 스퍼터링 타켓
엄선한 고순도 금속, 합금, 화합물 성막재를 공급합니다.
특징
진공용해품이므로 방출가스가 적다.
(순금속·합금)필요용도에 대응 할 수 있는 다양한 재료를 준비하고 있습니다.

각종증발재료

증착용 증발재료
Zone Melting 정제, 고 진공 기술을 이용한 조괴(造塊) 및 고정도의 가공기술에 의해 결함이 없고, 균질한 고순도 Cu, Ta Target을 제공하고 있습니다.
특징
Zone Melting 기술을 이용한 고순도 Cu-Target입니다.(순도 4N, 5N, 7N)
또한, Ta는 고진공중에서의 용해 정제에 의해 순도 5N을 달성하고 있습니다.
우수한 가공기술에 의해 LTS법에적합한 균질한 조직을 가진 타겟재료를 제공하고 있습니다.
미세배선에 대응한 Low Particle Sputtering Target을 제공하고 있습니다.

취급회사

ULVAC TECHNO. Ltd.
http://www.ulvac-techno.co.jp

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